Национальный стандарт РФ ГОСТ Р 71070-2023 "Приборы электронно-полупроводниковые. Термины и определения" (утв. и введен в действие приказом Федерального агентства по техническому регулированию и метрологии от 31 октября 2023 г. N 1308-ст)

Electronic semiconductor devices. Terms and definitions

УДК 621.385.83:006.354
ОКС 31.100

Дата введения - 1 марта 2024 г.
Введен впервые

ГАРАНТ:

Полужирный и светлый шрифты в тексте не приводятся

Предисловие

1 Разработан Акционерным обществом "Российский научно-исследовательский институт "Электронстандарт" (АО "РНИИ "Электронстандарт")

2 Внесен Техническим комитетом по стандартизации ТК 303 "Электронная компонентная база, материалы и оборудование"

3 Утвержден и введен в действие Приказом Федерального агентства по техническому регулированию и метрологии от 31 октября 2023 г. N 1308-ст

4 Введен впервые

Введение

Установленные в настоящем стандарте термины расположены в систематизированном порядке, отражающем систему понятий в области электровакуумных электронно-полупроводниковых приборов.

Для каждого понятия установлен один стандартизованный термин.

Заключенная в круглые скобки часть термина может быть опущена при использовании термина во всех видах документации, входящих в сферу действия работ по стандартизации, при этом не входящая в скобки часть термина образует его краткую форму. Краткая форма может быть также представлена аббревиатурой.

Наличие квадратных скобок в терминологической статье означает, что в нее включены два (три, четыре и т.п.) термина, имеющие общие терминоэлементы.

В алфавитном указателе данные термины приведены отдельно с указанием номера статьи.

В случаях, когда в термине содержатся все необходимые и достаточные признаки понятия, определение не приводится и вместо него ставится прочерк.

Приведенные определения допускается при необходимости изменять введением в них производных признаков, раскрывая значения используемых в них терминов с указанием объектов, входящих в объем определяемого понятия. Изменения не должны нарушать объем и содержание понятий, определенных в настоящем стандарте.

Стандартизованные термины набраны полужирным шрифтом, их краткие формы, представленные аббревиатурой, - светлым.

Термины и определения, необходимые для понимания текста стандарта, приведены в приложении А.

1 Область применения

Настоящий стандарт распространяется на электровакуумные электронно-полупроводниковые приборы, применяемые в радиоэлектронной аппаратуре, и устанавливает термины и определения понятий в области электровакуумных электронно-полупроводниковых приборов.

Настоящий стандарт не распространяется на приборы сверхвысокочастотного диапазона (СВЧ).

Термины, установленные настоящим стандартом, предназначены для применения во всех видах документации и литературы в области электронно-полупроводниковых приборов, входящих в сферу работ по стандартизации и (или) использующих результаты этих работ.

Настоящий стандарт предназначен для применения предприятиями, организациями и другими субъектами научной и производственной деятельности независимо от форм собственности и подчинения, а также федеральными органами исполнительной власти Российской Федерации, участвующими в разработке, производстве, эксплуатации электровакуумных электронно-полупроводниковых приборов в соответствии с действующим законодательством.

2 Термины и определения

Основные термины и определения

1 электронно-полупроводниковый прибор; ЭПП: Электровакуумный прибор для усиления тока (мощности), в котором используется эффект умножения тока в мишени ЭПП, бомбардируемой электронным лучом.

2 электронно-полупроводниковый прибор с модуляцией по плотности; ЭППП: Электронно-полупроводниковый прибор, в котором входной сигнал управляет плотностью тока электронного луча, попадающего на мишень ЭПП.

3 электронно-полупроводниковый прибор с модуляцией по отклонению; ЭППО: Электронно-полупроводниковый прибор, в котором входной сигнал отклоняет электронный луч в плоскости, перпендикулярной к направлению его движения, изменяя долю полного тока электронного луча, попадающего на мишень ЭПП.

4 электронно-полупроводниковая лампа с сеточным управлением; ЭПЛ: Электронно-полупроводниковый прибор с модуляцией по плотности, в котором управление электронным лучом осуществляется с помощью управляющей сетки.

5 ключевой электронно-полупроводниковый прибор; КЭПП: Электронно-полупроводниковый прибор, предназначенный для применения в ключевых схемах в качестве коммутаторов импульсов тока короткой длительности.

6 генераторный электронно-полупроводниковый прибор; ГЭПП: Электронно-полупроводниковый прибор, предназначенный для усиления и генерирования колебаний.

7 эффект умножения тока в ЭПП: Процесс генерации в мишени ЭПП электронно-дырочных пар под воздействием бомбардировки ее электронным лучом.

Конструктивные элементы

8 катодно-сеточный блок ЭПЛ: Совокупность конструктивно объединенных элементов ЭПЛ, исключающая катод и сетку, предназначенная для эмитирования электронов и управления электронным лучом.

9 отклоняющая система ЭППО: Совокупность конструктивно-объединенных элементов ЭППО, предназначенная для отклонения электронного луча в плоскости, перпендикулярной к направлению его движения.

10 корректирующая отклоняющая система ЭППО: Отклоняющая система ЭППО, предназначенная для исходной установки электронного луча.

11 анод ЭПП: Электрод ЭПП, предназначенный для создания ускоряющего и фокусирующего электростатического поля.

Примечание - В случае нескольких анодов различают анод 1, анод 2 и т.д. по порядку их расположения относительно управляющего электрода.

12 мишень ЭПП: Полупроводниковая(ые) структура(ы), в которой(ых) в результате бомбардировки электронным лучом возникает ток за счет генерации электронно-дырочных пар.

Примечание - В качестве мишени, как правило, служат диодные структуры и диоды с барьером Шоттки.

13 блок мишени ЭПП: Совокупность конструктивно объединенных элементов ЭПП, включающая мишень.

14 выводы мишени ЭПП: Выводы блока мишени ЭПП, через которые протекает основной ток внешней электрической цепи.

Примечание - Один из выводов мишени может быть соединен с анодом.

Основные параметры ЭПП и параметры режима

15 напряжение запирания ЭПП: Напряжение управляющего электрода или управляющей сетки ЭПП (измеряется относительно катода), при котором величина тока электронного луча принимает заданную малую величину.

16 пробивное напряжение мишени ЭПП: Напряжение смещения мишени ЭПП, вызывающее пробой перехода мишени, т.е. увеличение тока через переход сверх заданного значения.

17 напряжение [ток] начального смещения электронного луча ЭППО: Напряжение [ток] корректирующей отклоняющей системы ЭППО, необходимое для смещения электронного луча в исходное положение при нулевом значении входного напряжения отклоняющей системы.

18 ток утечки мишени ЭПП: Ток мишени ЭПП без воздействия на нее электронного луча при заданных напряжении смещения мишени и температуре мишени.

19 ток мишени ЭПП: Ток входной цепи ЭПП.

20 напряжение смещения мишени ЭПП: Разность потенциалов между выводами мишени ЭПП.

Примечание - Направление приложения напряжения соответствует обратному направлению перехода мишени (повышению потенциального барьера перехода).

21 напряжение смещения управляющего электрода [управляющей сетки] ЭПП: Постоянное напряжение управляющего электрода [управляющей сетки] ЭПП.

22 напряжение катода: Разность потенциалов между катодом и общей точкой ЭПП.

23 входное напряжение сетки ЭПЛ: Изменяющееся напряжение, подаваемое на управляющую сетку ЭПЛ, вызывающее изменение тока электронного луча.

24 рабочее напряжение управляющего электрода ЭППО: Напряжение управляющего электрода ЭППО (измеряется относительно катода), обеспечивающее заданный уровень тока электронного луча.

25 входное напряжение (отклоняющей системы ЭППО): Напряжение, подаваемое на вход отклоняющей системы ЭППО и осуществляющее отклонение электронного луча в плоскости перпендикулярной его движению.

26 длительность фронта импульса тока мишени ЭПП: Время увеличения тока мишени ЭПП от заданного нижнего уровня до заданного верхнего уровня (в процентах от максимального значения) при подаче отпирающего импульса.

Примечание - Как правило, рассматривают уровни 10 % и 90 %.

27 длительность спада импульса тока мишени ЭПП: Время уменьшения тока мишени ЭПП от заданного верхнего уровня до заданного нижнего уровня (в процентах от максимального значения).

Примечание - Как правило, рассматривают уровни 90 % и 10 %.

28 мощность, рассеиваемая мишенью ЭПП: Мощность, рассеиваемая блоком мишени ЭПП в виде тепла.

Алфавитный указатель терминов на русском языке

анод ЭПП	11
блок мишени ЭПП	13
блок ЭПЛ катодно-сеточный	8
выводы мишени ЭПП	14
ГЭПП	6
длительность спада импульса тока мишени ЭПП	27
длительность фронта импульса тока мишени ЭПП	26
КЭПП	5
лампа с сеточным управлением электронно-полупроводниковая	4
мишень ЭПП	12
мощность, рассеиваемая мишенью ЭПП	28
напряжение входное	25
напряжение запирания ЭПП	15
напряжение катода	22
напряжение мишени ЭПП пробивное	16
напряжение начального смещения электронного луча ЭППО	17
напряжение отклоняющей системы ЭППО входное	25
напряжение сетки ЭПЛ входное	23
напряжение смещения мишени ЭПП	20
напряжение смещения управляющего электрода ЭПП	21
напряжение смещения управляющей сетки ЭПП	21
напряжение управляющего электрода ЭППО рабочее	24
прибор с модуляцией по отклонению электронно-полупроводниковый	3
прибор с модуляцией по плотности электронно-полупроводниковый	2
прибор электронно-полупроводниковый	1
прибор электронно-полупроводниковый генераторный	6
прибор электронно-полупроводниковый ключевой	5
система ЭППО отклоняющая	9
система ЭППО отклоняющая корректирующая	10
ток мишени ЭПП	19
ток начального смещения электронного луча ЭППО	17
ток утечки мишени ЭПП	18
ЭПЛ	4
ЭПП	1
ЭППО	3
ЭППП	2
эффект умножения тока в ЭПП	7

Ключевые слова: приборы электронно-полупроводниковые, термины, определения.